厚街镀DLC 欢迎来电垂询

常见的制备DLC 薄膜的方法有真空蒸发 、溅射、等离子体辅助化学气相沉积、离子注入
等。这些方法中, 传统的真空蒸发镀膜法具有较高的沉积速度, 生成的薄膜纯度高, 但由于热蒸发的原子或分子在基板上能量很低(约0􀀁2 eV ), 其表面迁移率很低, 导致薄膜与基体结合强度差, 加上已经沉积的原子对后来飞到的原子会造成阴影效果, 使得真空蒸发镀膜技术的应用受到很大的限制。离子注入法能使材料的摩擦因数、耐磨性、耐腐蚀性等发生**变化, 而且注入层与基体材料之间没有清晰的界面, 因而与基体结合牢固, 表面不存在粘附破裂或剥落。然而, 离子注入的注入层太薄, 仅数百纳米, 在耐磨工况下应用受到一定限制。
为了克服真空蒸发镀膜法结合力差以及离子注入法注入层浅的问题, 科研人员把薄膜蒸发沉积与离子注入技术结合起来, 研究出了真空蒸发离子束辅助沉积技术[ 5, 6] 。该技术在用蒸发源(电子束) 将元素沉积在基片上的同时, 用离子轰击镀层, 以获得比离子注入层更厚、比蒸发镀膜法附着力更大的高性能致密膜层。因此这种方法有利于增强薄膜的摩擦学性能。本文作者用真空蒸发离子束辅助镀膜的方法制备了DLC薄膜, 测试了其摩擦学性能, 并对DLC 薄膜的表面形貌对其摩擦学行为的影响进行了研究。
弹簧钢及T i6A l4V球表面经真空蒸发离子束辅助镀膜处理后形成了光滑、致密的DLC薄膜, 摩擦学试验结果表明, DLC 薄膜降低了基体材料的摩擦因数, 改善了摩擦学性能。磨损表面的SEM 和AFM 分析表明, DLC 薄膜的表面磨损较轴承钢为轻, 表现出轻微的磨损痕迹, 表明弹簧钢基体经真空蒸发离子束辅助技术处理后, 表面摩擦学性能获得**改善。AFM 分析还表明, T i6A l4V 球表面镀DLC 薄膜后,磨痕表面比磨损前原始表面平整光滑, 表面粗糙度小, 其摩擦学性能在摩擦过程中进一步得到改善。

专业低温技术真空PVD镀膜服务,PVD涂层,TiN涂层 ,TiCN涂层,TiAlN涂层, CrN涂层,DLC涂层,TiAlCrN涂层。其中DLC涂层工艺温度为80~150度,其它涂层均小于280度
公司为新加坡独资企业,公司的技术为自主**(US11/041,789)的低温PVD涂层技术(磁控阴极弧及强化磁控溅射),涂层时工作温度<300度,涂层具有更好的综合性能,此技术是PVD技术领域的一大突破,目前世界通用的PVD技术均为高温技术,涂层温度均在450度以上。此技术有效解决了高温所带来的种种弊端,如高温回火,材料变形,焊缝开裂,脱落等等。


天然生成的金刚石常常发现有几乎纯结晶形式的立方取向的sp杂化的碳原子。有时候它们会有一些缺陷或者是杂质原子，这使它们有一定的颜色，但是晶格仍然是立方结构而且键合仍然是纯粹的sp杂化。立方晶型的内部能量比六方晶型要略低，而且就从熔融材料中生长速率而言，无论是自然形成还是合成金刚石都足够的慢，使得晶格有时间以较低的能量（立方）生长，从而使sp杂化的碳原子成为可能。相比之下，类金刚石碳是由具有高能量前驱碳（例如等离子体、阴极电弧沉积、溅射沉积以及离子束沉积）在相对冷的表面上快速冷却或淬火而成。在这些情况下，立方晶格和六方晶格被一层层的随机混合，因为在碳原子被“冻结”在材料表面之前并没有足够的结晶生长的时间。非晶类金刚石涂层可以导致没有长程晶格有序。没有长程有序就没有脆性断裂平面，因此涂层会比较有弹性、对基底材料的形状有适应性，同时和金刚石一样硬。事实上，这种性质已经被用来研究类金刚石碳在纳米尺度上的原子间磨损。

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